Contact: info@techsite.be
Chinese wetenschappers claimen een werkend EUV-prototype te hebben gebouwd, gebaseerd op reverse-engineered ASML-technologie. De machine produceert EUV-licht, maar maakt nog geen functionele chips. Target: werkende productie tegen 2028.
Reuters meldt op basis van twee bronnen dat China begin 2025 een prototype van een extreme ultraviolet lithografiemachine heeft voltooid. Het apparaat zou ontwikkeld zijn door voormalige ASML-ingenieurs die de Nederlandse EUV-systemen hebben gereverse-engineerd. De machine is momenteel in de testfase.
Prototype operationeel, maar geen chipproductie
Het prototype genereert extreem ultraviolet licht met een golflengte van 13,5nm — de basis voor geavanceerde chipproductie — maar produceert vooralsnog geen werkende chips. Volgens betrokkenen zijn daarvoor nog aanzienlijke technische doorbraken nodig, met name op het gebied van de optische systemen die westerse leveranciers zoals Zeiss leveren.
China zou het prototype deels hebben gebouwd met tweedehandsonderdelen van oudere ASML-machines. De Chinese overheid heeft als officieel target gesteld dat de machine in 2028 functionele chips moet kunnen fabriceren. Bronnen die nauw betrokken zijn bij het project noemen 2030 echter een realistischer tijdslijn, gezien de complexiteit van EUV-technologie.
Export restrictions drijven Chinese zelfredzaamheid
De VS blokkeert sinds 2018 actief de verkoop van geavanceerde lithografiesystemen aan Chinese chipmakers. Sinds 2024 geldt naast het bestaande EUV-exportverbod ook een restrictie op bepaalde DUV-machines van ASML. Deze exportcontroles dwingen China om alternatieven te ontwikkelen zonder westerse technologie.
Ondertussen boekt Chinese chipfabrikant SMIC vooruitgang met zijn 5nm-productieproces, dat inmiddels in massaproductie is gegaan — een opmerkelijke prestatie zonder toegang tot de nieuwste westerse lithografietools. Of China de technologische achterstand op ASML kan inhalen blijft de vraag, maar de ambitie en investeringen zijn duidelijk aanwezig.
